329 PVDを用いた薄膜堆積法による表面マイクロマシニング(マイクロ材料)
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概要
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Micromachining developed with semiconductor fabrication has been applied to fabricate microstructure. For micro machine elements a various thin film on the surface of silicon is patterned by photolithography, which called surface-micromachining. Surface-micromachining is currently the principle technique to fabricate semiconductor-based structural components and actuators on silicon wafer. Sputtering machine was employed to deposit thin film process, characteristics in thin film formation is investigated for sputtering and fabricating micro machine elements.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2000-06-23
著者
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