スリットのある円柱まわりの流れ特性 : 第2報,境界層吸込みの効果
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
円柱の直径方向に二次元流路を有するスリット円柱が境界層吸込みを行う場合について実験的研究を行った.その結果,間欠的な境界層吸込みの場合(パターンI),境界層吸込みと吹出しが同時に行われ交互に逆転する場合(パターンII)およびこれらの遷移域の流れ特性を明らかにした.特に,境界層吸込みのメカニズム,スリット内および円柱背面近傍の流動,後流うず形成のメカニズムを明らかにした.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 1982-01-25
著者
関連論文
- 上壁のある円形衝突噴流により空中保持される球まわりの流れ
- 漏斗からの噴流により空中保持される球
- 水に浮く比重1以上の円盤
- 静水に浮く有限長円柱の姿勢解析
- 平行流路に置かれた二次元角柱の圧力損失と熱伝達 : 開口比の影響(熱工学,内燃機関,動力など)
- 平行平板流路におかれた単一角柱の圧力損失の低減(熱工学,内燃機関,動力など)
- 平行平板流路に置かれた単一角柱の圧力損失(熱工学,内燃機関,動力など)
- F222 平行流路に置かれた単一二次元角柱の圧力損失低減と伝熱促進
- 基板上に高密度に碁盤目配列された円柱群の圧力損失(熱工学,内燃機関,動力など)
- ボルテックスジェネレータのある円柱まわりの流動と熱伝達
- 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析
- 前縁端部に小さな切欠を有する段付き円板の抗力軽減(流体工学,流体機械)
- 乱流遷移を応用した円板の抗力軽減(流体工学,流体機械)
- C213 赤外線サーモグラフィーを用いた乱流熱伝達の非定常測定(OS-6 熱流動現象の計測およびデータ解析技術I)
- D132 基盤上に碁盤目配列された正方形ブロック群の圧力損失と熱伝達(OS-15 電子機器・デバイスの熱問題と現状技術IV)
- 720 前縁端部に小さな切り欠きを有する段付き円板の抗力軽減(OS7-5 噴流及びせん断流の構造と制御(円板抗力・対向傾斜噴流),OS7 噴流及びせん断流の構造と制御,オーガナイズドセッション)
- 719 乱流遷移を応用した円板の抗力軽減(OS7-5 噴流及びせん断流の構造と制御(円板抗力・対向傾斜噴流),OS7 噴流及びせん断流の構造と制御,オーガナイズドセッション)
- リング設置による円柱の抗力および変動力低減(流体工学,流体機械)
- 飲料水の入った缶が斜めに立つ安定解析
- 電子機器パッケージまわりの流れと熱伝達の可視化
- 赤外線サーモグラフィーを用いた非定常熱伝達の可視化
- 低風速きょう体内に置かれた薄形ブロックの伝熱促進(熱工学,内燃機関,動力など)
- G123 円柱はく離領域の非定常熱伝達 : Re>5000 での伝熱機構の変化について
- B-323 レイノルズ数 100∿30000 における円柱はく離領域の熱伝達の時空間特性
- レイノルズ数120〜30000における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 第2報,非定常性および三次元性(熱工学,内燃機関,動力など)
- レイノルズ数120〜30000における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 第1報,時間平均特性(熱工学,内燃機関,動力など)
- F221 レイノルズ数 100∿30000 における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 非定常性および三次元性
- 電子機器パッケージ模型まわりの流れと熱伝達(熱工学,内燃機関,動力など)
- D形およびI形断面柱の抗力軽減 : 第2報,抗力軽減のメカニズム(流体工学,流体機械)
- 1409 D 形および I 形断面柱の抗力軽減(第 2 報, 抗力軽減のメカニズム)
- D形およびI形断面柱の抗力軽減 : 第1報,圧力分布の測定と流れの可視化(流体工学, 流体機械)
- 1323 D 形および I 形断面柱まわりの流れ特性 : 第 1 報ストローハル数と背圧係数
- 水流に引き上げられる卵, ゴルフボールおよび球まわりの流れに関する研究 (第1報, 臨界流量)
- 静水に浮く角材の姿勢
- E208 低風速におけるパッケージまわりの流れと熱伝達(オーガナイズドセッション21 : 電子機器の熱設計と解析の応用)
- C215 円柱はく離領域の非定常熱伝達(オーガナイズドセッション6 : 自由噴流,衝突噴流およびはく離を伴う熱・物質移動)
- 密閉空間内自然対流の振動現象 : 第3報 : 短形断面内編心線熱源の場合 : 熱工学 , 内燃機関 , 動力など
- 基板上に碁盤目配列された円柱ブロック群の圧力損失と熱伝達
- 平板乱流境界層に置かれた直列配列2立方体まわりの流れと局所熱伝達
- 正方形柱の抗力軽減と伝熱促進
- 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤上の流れ (可視化情報学会 全国講演会(札幌2000)講演論文集) -- (可視化手法の応用(2))
- 立方体突起まわりの局所熱伝達 : 傾き角45°の場合
- 立方体突起まわりの局所熱伝達
- 平板境界層に置かれた円柱突起まわりの流動と熱伝達
- 円柱からの渦放出における非対称はく離せん断層の影響
- 管路要素の流体抵抗
- 直円管内の渦発生体の抵抗係数
- 極微少量液体の流量計測に関する基礎的研究
- 極微少量液体の流量計測に関する基礎的研究
- 正方形柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第1報, 小さな渦発生体による流れの制御
- 熱工学
- ボルテックスジェネレータのある円柱まわりの流れ
- 基板上に基盤目配列されたブロック群の圧力損失
- 基板上に基盤目配列されたブロック群の圧力損失と流れの可視化
- 円柱のはく離領域における流動と熱伝達
- 平行平板流路に置かれた角柱列まわりの流れと熱伝達
- 平板境界層におかれた長方形柱の伝熱促進
- 平板層流境界層におかれた長方形柱まわりの流れと熱伝達
- 平板層流境界層におかれた長方形柱からの熱伝達
- 平板層流境界層におかれた長方形柱まわりの流れ
- AM05-04-016 前縁端部に小さな切り欠きを有する矩形柱の抗力軽減(境界層とせん断流4,一般講演)
- はく離流の熱伝達に関する研究 : 第1報, 一様流中に傾斜して置かれた平板背面の熱伝達
- AM05-14-003 赤外線サーモグラフィーによる非定常熱伝達測定 : 極薄白金箔を伝熱面とした場合の周波数応答(乱流熱物質移動および反応流1,一般講演)
- AM05-04-015 乱流遷移を応用した矩形柱の抗力軽減(境界層とせん断流4,一般講演)
- 切り欠きのある円柱まわりの流れと抗力低減
- スリットのある円柱まわりの流動と熱伝達
- 円柱まわりの流れに及ぼすトリッピングワイヤの効果
- G101 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析(2)(GS-1-1 様々な流動現象,GS-1 様々な流動現象,一般セッション)
- G101 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析(1)(GS-1-1 様々な流動現象,GS-1 様々な流動現象,一般セッション)
- G141 リング設置による円柱の抗力軽減(G-14 せん断流れ(4),一般講演)
- 近接異径二円柱まわりの干渉流れ : 実験および渦法による数値解析
- 近接異径3本円柱まわりの流れ
- 近接異径3本円柱に作用する流体力
- 近接直列2円柱まわりの非定常流
- ダイヤ形正方形柱の抗力軽減と伝熱促進 : (ロッドによる流れ場の制御)
- 円柱に働く抗力の軽減と伝熱促進 : 小さなロッドによる流れ場の制御
- 円柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第2報,レイノルズ数の影響
- 円柱橋脚の静的洗掘に関する基礎実験
- 円柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第1報,小さなロッドによる流れの制御
- 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第3報, 背面に沿う付着噴流の特性
- 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第2報,円柱に働く流体力
- 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第1報,はく離せん断層の強制再付着
- 直列3本円柱まわりの流れ特性
- 平板乱流境界層内に置かれた長方形柱まわりの流れと熱伝達
- 近接直列2円柱まわりの流動と熱伝達 : レイノルズ数の影響
- 直交平板の伝熱促進と抗力軽減 : ロッドによる流れの制御
- 流れに直交した平板の抗力軽減 : ロッドによる流れの制御
- はく離流の熱伝達に関する研究 : 第3報, 正三角柱の場合
- 直円管内の渦発生体の抵抗係数とストローハル数
- C131 赤外線サーモグラフィーによる非定常熱伝達測定 : 時定数および空間分解能の向上(C-13 乱流熱物質移動および反応流(1),一般講演)
- 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力 : 第3報、小円盤の場合 : 流体工学,流体機械
- 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力 : (第2報, 圧力分布と揚力)
- 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力:第1報, 臨界流量
- 橋脚まわりの洗掘とその防止に関する基礎的研究
- わずかな傾き角のある長方形断面柱まわりの流動と熱伝達 : 断面辺長比5の場合
- 密閉空間内自然対流の振動現象 : 第1報, 水平円筒内加熱細線の場合
- 円柱橋脚の局所洗掘深さの予測 : 第1報,静的洗掘における水深/円柱直径≦1.2の場合
- Heat Transfer Augmentation セッション
- 正方形柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第3報, 抗力軽減のメカニズム
- 8・1・3伝熱(8.熱工学)(8.1伝熱および熱力学)