基板上に基盤目配列されたブロック群の圧力損失と流れの可視化

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 可視化情報学会の論文
• 1997-10-01

著者

• 五十嵐 保

  防衛大学校

• 福岡 健人

  防衛大学校研究科

• 五十嵐 保

  防衛大

関連論文

• 上壁のある円形衝突噴流により空中保持される球まわりの流れ
• 漏斗からの噴流により空中保持される球
• 水に浮く比重1以上の円盤
• 静水に浮く有限長円柱の姿勢解析
• 平行流路に置かれた二次元角柱の圧力損失と熱伝達 : 開口比の影響(熱工学,内燃機関,動力など)
• 平行平板流路におかれた単一角柱の圧力損失の低減(熱工学,内燃機関,動力など)
• 平行平板流路に置かれた単一角柱の圧力損失(熱工学,内燃機関,動力など)
• F222 平行流路に置かれた単一二次元角柱の圧力損失低減と伝熱促進
• 基板上に高密度に碁盤目配列された円柱群の圧力損失(熱工学,内燃機関,動力など)
• ボルテックスジェネレータのある円柱まわりの流動と熱伝達
• 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析
• 前縁端部に小さな切欠を有する段付き円板の抗力軽減(流体工学,流体機械)
• 乱流遷移を応用した円板の抗力軽減(流体工学,流体機械)
• C213 赤外線サーモグラフィーを用いた乱流熱伝達の非定常測定(OS-6 熱流動現象の計測およびデータ解析技術I)
• D132 基盤上に碁盤目配列された正方形ブロック群の圧力損失と熱伝達(OS-15 電子機器・デバイスの熱問題と現状技術IV)
• 720 前縁端部に小さな切り欠きを有する段付き円板の抗力軽減(OS7-5 噴流及びせん断流の構造と制御(円板抗力・対向傾斜噴流),OS7 噴流及びせん断流の構造と制御,オーガナイズドセッション)
• 719 乱流遷移を応用した円板の抗力軽減(OS7-5 噴流及びせん断流の構造と制御(円板抗力・対向傾斜噴流),OS7 噴流及びせん断流の構造と制御,オーガナイズドセッション)
• リング設置による円柱の抗力および変動力低減(流体工学,流体機械)
• 飲料水の入った缶が斜めに立つ安定解析
• 電子機器パッケージまわりの流れと熱伝達の可視化
• 赤外線サーモグラフィーを用いた非定常熱伝達の可視化
• 低風速きょう体内に置かれた薄形ブロックの伝熱促進(熱工学,内燃機関,動力など)
• G123 円柱はく離領域の非定常熱伝達 : Re>5000 での伝熱機構の変化について
• B-323 レイノルズ数 100∿30000 における円柱はく離領域の熱伝達の時空間特性
• レイノルズ数120〜30000における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 第2報,非定常性および三次元性(熱工学,内燃機関,動力など)
• レイノルズ数120〜30000における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 第1報,時間平均特性(熱工学,内燃機関,動力など)
• F221 レイノルズ数 100∿30000 における円柱はく離領域の熱伝達特性 : 非定常性および三次元性
• 電子機器パッケージ模型まわりの流れと熱伝達(熱工学,内燃機関,動力など)
• D形およびI形断面柱の抗力軽減 : 第2報,抗力軽減のメカニズム(流体工学,流体機械)
• 1409 D 形および I 形断面柱の抗力軽減(第 2 報, 抗力軽減のメカニズム)
• D形およびI形断面柱の抗力軽減 : 第1報,圧力分布の測定と流れの可視化(流体工学, 流体機械)
• 1323 D 形および I 形断面柱まわりの流れ特性 : 第 1 報ストローハル数と背圧係数
• 水流に引き上げられる卵, ゴルフボールおよび球まわりの流れに関する研究 (第1報, 臨界流量)
• 静水に浮く角材の姿勢
• E208 低風速におけるパッケージまわりの流れと熱伝達(オーガナイズドセッション21 : 電子機器の熱設計と解析の応用)
• C215 円柱はく離領域の非定常熱伝達(オーガナイズドセッション6 : 自由噴流,衝突噴流およびはく離を伴う熱・物質移動)
• 密閉空間内自然対流の振動現象 : 第3報 : 短形断面内編心線熱源の場合 : 熱工学 , 内燃機関 , 動力など
• 基板上に碁盤目配列された円柱ブロック群の圧力損失と熱伝達
• 平板乱流境界層に置かれた直列配列2立方体まわりの流れと局所熱伝達
• 正方形柱の抗力軽減と伝熱促進
• 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤上の流れ (可視化情報学会 全国講演会(札幌2000)講演論文集) -- (可視化手法の応用(2))
• 立方体突起まわりの局所熱伝達 : 傾き角45°の場合
• 立方体突起まわりの局所熱伝達
• 平板境界層に置かれた円柱突起まわりの流動と熱伝達
• 円柱からの渦放出における非対称はく離せん断層の影響
• 管路要素の流体抵抗
• 直円管内の渦発生体の抵抗係数
• 極微少量液体の流量計測に関する基礎的研究
• 極微少量液体の流量計測に関する基礎的研究
• 正方形柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第1報, 小さな渦発生体による流れの制御
• 熱工学
• ボルテックスジェネレータのある円柱まわりの流れ
• 基板上に基盤目配列されたブロック群の圧力損失
• 基板上に基盤目配列されたブロック群の圧力損失と流れの可視化
• 円柱のはく離領域における流動と熱伝達
• 平行平板流路に置かれた角柱列まわりの流れと熱伝達
• 平板境界層におかれた長方形柱の伝熱促進
• 平板層流境界層におかれた長方形柱まわりの流れと熱伝達
• 平板層流境界層におかれた長方形柱からの熱伝達
• 平板層流境界層におかれた長方形柱まわりの流れ
• AM05-04-016 前縁端部に小さな切り欠きを有する矩形柱の抗力軽減(境界層とせん断流4,一般講演)
• はく離流の熱伝達に関する研究 : 第1報, 一様流中に傾斜して置かれた平板背面の熱伝達
• AM05-14-003 赤外線サーモグラフィーによる非定常熱伝達測定 : 極薄白金箔を伝熱面とした場合の周波数応答(乱流熱物質移動および反応流1,一般講演)
• AM05-04-015 乱流遷移を応用した矩形柱の抗力軽減(境界層とせん断流4,一般講演)
• 切り欠きのある円柱まわりの流れと抗力低減
• スリットのある円柱まわりの流動と熱伝達
• 円柱まわりの流れに及ぼすトリッピングワイヤの効果
• G101 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析(2)(GS-1-1 様々な流動現象,GS-1 様々な流動現象,一般セッション)
• G101 静水に浮く矩形断面柱の姿勢解析(1)(GS-1-1 様々な流動現象,GS-1 様々な流動現象,一般セッション)
• G141 リング設置による円柱の抗力軽減(G-14 せん断流れ(4),一般講演)
• 近接異径二円柱まわりの干渉流れ : 実験および渦法による数値解析
• 近接異径3本円柱まわりの流れ
• 近接異径3本円柱に作用する流体力
• 近接直列2円柱まわりの非定常流
• ダイヤ形正方形柱の抗力軽減と伝熱促進 : (ロッドによる流れ場の制御)
• 円柱に働く抗力の軽減と伝熱促進 : 小さなロッドによる流れ場の制御
• 円柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第2報,レイノルズ数の影響
• 円柱橋脚の静的洗掘に関する基礎実験
• 円柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第1報,小さなロッドによる流れの制御
• 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第3報, 背面に沿う付着噴流の特性
• 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第2報,円柱に働く流体力
• 小円柱による円柱まわりの流れの制御に関する研究 : 第1報,はく離せん断層の強制再付着
• 直列3本円柱まわりの流れ特性
• 平板乱流境界層内に置かれた長方形柱まわりの流れと熱伝達
• 近接直列2円柱まわりの流動と熱伝達 : レイノルズ数の影響
• 直交平板の伝熱促進と抗力軽減 : ロッドによる流れの制御
• 流れに直交した平板の抗力軽減 : ロッドによる流れの制御
• はく離流の熱伝達に関する研究 : 第3報, 正三角柱の場合
• 直円管内の渦発生体の抵抗係数とストローハル数
• C131 赤外線サーモグラフィーによる非定常熱伝達測定 : 時定数および空間分解能の向上(C-13 乱流熱物質移動および反応流(1),一般講演)
• 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力 : 第3報、小円盤の場合 : 流体工学,流体機械
• 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力 : (第2報, 圧力分布と揚力)
• 上壁のある円形衝突噴流により浮上する円盤に働く揚力:第1報, 臨界流量
• 橋脚まわりの洗掘とその防止に関する基礎的研究
• わずかな傾き角のある長方形断面柱まわりの流動と熱伝達 : 断面辺長比5の場合
• 密閉空間内自然対流の振動現象 : 第1報, 水平円筒内加熱細線の場合
• 円柱橋脚の局所洗掘深さの予測 : 第1報,静的洗掘における水深/円柱直径≦1.2の場合
• Heat Transfer Augmentation セッション
• 正方形柱に働く抗力の軽減に関する研究 : 第3報, 抗力軽減のメカニズム
• 8・1・3伝熱(8.熱工学)(8.1伝熱および熱力学)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク