窒化ケイ素基板への高密着性ダイヤモンド被覆
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概要
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The effects of CVD parameters and preparation process on the adherent coating of diamond on a pretreated silicon nitride substrate were investigated by the two-stage microwave plasma CVD in the CO-H_2 system. Fine-grained diamond was deposited by the first stage CVD into the micropores of the surface layer of the substrate, which was pretreated by etching in a hot strong acid (HF and HNO_3) solution and subsequently by microflawing with diamond grains in an ultrasonic bath. Excellently adherent and thick diamond coating was prepared by the second stage CVD for long term durations. Long tool life was verified by the milling test of the diamond-coated specimens using Al-20 mass% Si alloy as work material.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1996-12-01
著者
-
伊藤 秀章
名古屋大学理工科学総合研究センター
-
岩原 弘育
名古屋大学理工科学総合研究センター
-
坂本 弘道
シグマコーティング技研
-
伊藤 秀章
Division Of Environmental Research Ecotopia Science Institute Nagoya University
-
岩原 弘育
名古屋大
-
伊藤 秀章
名古屋大学工学部人工結晶研究施設
-
伊藤 秀章
名古屋大学
-
岩原 弘育
鳥取大・工
-
岩原 弘育
名古屋大学
-
志村 禎徳
名古屋大学理工科学総合研究センター
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