28p-XJ-1 電子線ホログラフィによる微分顕微鏡法III
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1999-03-15
著者
-
日比野 倫夫
名大理工総研
-
日比野 倫夫
名古屋大学理工科学総合研究センター
-
丹司 敬義
名大理工総研
-
谷口 崇
名大工
-
山本 和生
名大工
-
谷口 崇
名大工学研究科
-
山本 和生
(財)ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所
-
丹司 敬義
名古屋大
関連論文
- AlGaN中間層を用いて作製したSi上選択成長GaNのTEM観察 : エピタキシャル成長II
- AlGaN中間層を用いてSi上に選択成長したGaNピラミッドのTEM観察
- パーマロイ蒸着薄膜中の斑点および磁区模様の電子顕微鏡観察 : 応用磁性
- 電子顕微鏡によるパーマロイ蒸着局所異方性の観察 : 応用磁性
- 超高圧電子顕微鏡における振動の影響
- 高精度位相シフト電子線ホログラフィ
- 28aXC-8 磁性金属多層膜(Co/Cu)の電子線ホログラフィによる断面観察
- 28aXC-4 透過電子顕微鏡による電荷整列La_Sr_MnO_4への微小領域EELS
- 22aSF-7 透過型電子顕微鏡による電荷整列La_Sr_MnO_4への微小領域EELS
- 22aYH-5 ビデオレート記録システムをもちいた時間分解EELSによるCaF_2照射損傷過程
- 24pYF-14 グラファイト陰極上への短時間パルスアーク放電による初期生成物
- 磁性金属多層膜(Co/Cu)の電子線ホログラフィ
- 高精度位相シフト電子線ホログラフィのシミュレーション
- 電子線バイプリズムによるフレネル回折の影響とその補正
- 小電流パルスアークによるフラーレン生成高温システム
- 小電流パルスアークによるグラファイトアブレーション
- 24pS-8 パルスアーク放電による炭素プラズマからの微粒子生成基礎過程
- 22aZF-12 La_Sr_MnO_3の角度分解EELSスペクトル
- 27pYA-7 電子線バイプリズムによるフレネル回折の影響とその補正
- 27pYA-6 交流電圧印可による電子線微分干渉法の検討
- パルスアーク放電を用いたフラーレン生成システムの製作
- 電子線ホログラフィによる微分顕微鏡法
- ローレンツ電子顕微鏡法によるFe微粒子の観察
- 位相シフト電子綿ホログラフィによる高精度位相計測法の開発と応用
- 最大エントロピー法を用いた弱位相物体のTEM像のデコンボリューション
- CaF_2における電子照射誘起過程の時間分解EELS
- ペロブスカイト型Mn酸化物の運動量分解EELS
- 28p-J-1 ローレンツ電子顕微鏡法によるFe微粒子の観察II
- 28p-XJ-2 磁性超微粒子のローレンツ電子顕微鏡像
- 28p-XJ-1 電子線ホログラフィによる微分顕微鏡法III
- 25p-K-15 位相シフト電子線ホログラフィの高精度化
- 30p-YC-8 電子線ホログラフィーによる微分顕微鏡法II
- 5p-X-4 電子線ホログラフィによる微分顕微鏡法
- 28p-A-2 高分解能電子線ホログラフィにおける収差補正
- CoFeBサンドイッチ膜のローレンツ電子顕微鏡観察
- ZrSiO_4の高分解能電子線ホログラフィ
- 電子線ホログラフィーによるIII-V系半導体のドーパント分布測定
- 電子線ホログラフィーの原理と磁性材料・半導体デバイス解析への応用 (特集 最先端の電子顕微鏡技術と応用展開)
- 30p-YM-11 電子線ホログラフィによる磁性体微粒子の磁区状態決定
- 30p-YM-10 電子線ホログラフィによる表面のプロファイル像II
- 12p-DL-10 結晶構造像の電子線ホログラフィII
- 29a-ZB-8 結晶構造像の電子線ホログラフィ
- 電子線ホログラフィーによるその場磁場観察
- 電子線ホログラフィーによる機能材料の直接観察 (特集 ファインセラミックス開発の新展開--JFCCは今)
- パーマロイ薄膜磁化異方性の電顕による測定 : 表面物理・薄膜
- TEMを用いた新しい薄膜キャラクタリゼーション技術 (特集 セラミックスインテグレーション)
- 12p-DL-9 実時間電子線ホログラフィによる磁壁の動的観察
- 31p-PSB-38 電子線ホログラフィによるバリウムフェライト粒子磁区状態の観察
- 26p-YJ-3 ローレンツ電顕法による薄膜内磁性微粒子の観察
- 強磁性形状記憶合金マルテンサイト相における双晶と磁区構造の関係
- 電子線ホログラフィによる微粒子の磁区構造観察
- 28aXC-9 電子線振幅分割多波干渉における位相情報
- 22aYH-12 電子線多波干渉における位相情報の現れ方
- 振幅分割型3波干渉像の計算機シミュレーション
- 4波干渉位相計測法
- フレネルインライン電子線ホログラフィーにおける画質改善
- 0.1nmあるいはそれ以下の分解能で何が期待できるか
- 高分解能電子線ホログラフィ-のシミュレ-ション
- 高輝度電子放射材料の研究--遷移金属窒化物の作製および電子放射特性
- 27p-D-6 MgO微粒子の電顕観察におけるチャージアップ効果
- 29a-L-11 X線定量分析における回折効果
- 30a-M-2 EDXによる薄膜試料の定量分析
- 高分解能電子顕微鏡用オンライン画像処理システム
- 31p-N-7 ジルコンの放射線損傷の電子顕微鏡像
- 2a GK-3 管状結晶の高分解能電子顕微鏡像
- 13pTJ-13 ローレンツ顕微鏡法を用いた位相情報の抽出(電子線, 領域 10)
- ローレンツ顕微鏡法による強磁性薄膜の磁化過程の観察
- 電子線ホログラフィの高分解能化・高精度化
- 磁性グラニュラー膜のローレンツ顕微鏡観察
- 電子顕微鏡による微細磁気構造の観察
- 28pXC-5 新しい電子線ホログラフィとその応用
- 電子線ホログラフィーによる全固体Liイオン電池内部のその場電位観察 (特集 ファインセラミックスセンターの未来開拓研究による環境・エネルギーへの挑戦)
- 3p-N-1 MgO表面と電子線との相互作用
- ホログラフィによる高分解能化 (日本電子顕微鏡学会第43回シンポジウム論文集--21世紀へ向けての新技術の展開--平成10年10月28日(水)〜30日(金),千葉大学けやき会館〔含 著者名索引〕) -- (最先端TEM評価技術の動向)
- 電子線ホログラフィによる新しい微分干渉計測法
- 25pPSA-12 磁性金属多層膜(Co/Cu)の電子線ホログラフィによる断面観察(25pPSA 薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性,スピングラス・ランダム系,アモルファス系,領域3(磁性,磁気共鳴分野))
- 24aWJ-10 磁性金属多層膜(Co/Cu)の電子線ホログラフィによる断面観察(24aWJ X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性分野))