スパッタ法による(K,Na)NbO_3鉛フリー圧電薄膜の作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2012-09-10
著者
関連論文
- スパッタ法による(K,Na)NbO_3鉛フリー圧電薄膜の作製
- p形GaNショットキー接触におけるICPエッチングの影響(半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 表面ストイキオメトリを制御したp-GaNショットキー接触の電気的特性(半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 3-7 圧電薄膜を用いた振動エナジーハーベスターの特性評価(OS3 電池レス・デバイスのためのエネルギーハーベストの展開)
- MP-14 KNN非鉛圧電薄膜の微細加工(ポスターセッション)
- J161041 (K,Na)NbO_3圧電薄膜の微細加工技術([J16104]マイクロナノメカト口ニクス(4))
- スパッタリング法によるKNN系非鉛強誘電体薄膜の作製とその加工技術