ナノストライプ構造による新しいパターニング法と潤滑面への適用 : 自己再生ナノパターンへの挑戦
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概要
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- 2012-08-15
著者
-
是永 敦
(独)産業技術総合研究所
-
間野 大樹
産総研
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是永 敦
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
-
是永 敦
産業技術総合研 先進製造プロセス研究部門
-
間野 大樹
産業技術総合研 機械システム研究部門
-
三宅 晃司
産業技術総合研
-
安藤 泰久
東京農工大学
-
間野 大樹
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
-
中野 美紀
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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