ナノ結晶ダイヤモンド薄膜CVD用大電力および大面積表面波励起プラズマ装置
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2008-12-20
著者
-
金 載浩
産業技術総合研究所
-
金 載浩
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
-
石原 正統
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
-
長谷川 雅考
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
-
古賀 義紀
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
-
津川 和夫
産業技術総合研究所
-
石原 正統
産業技術総合研究所
-
長谷川 雅考
産業技術総合研究所
-
古賀 義紀
産業技術総合研究所
-
古賀 義紀
産業技術総合研 ナノチューブ応用研究セ
-
長谷川 雅考
産業技術総合研
-
津川 和夫
産総研
関連論文
- マイクロ波励起大気圧吹き出しプラズマの各種食材表面照射に関する予備実験 (第2報)
- 3.大気圧プラズマを準備しよう(大気圧プラズマを点けてみよう)
- 薄膜ナノ結晶ダイヤモンドの結晶成長と応用
- ナノ結晶ダイヤモンド薄膜CVD用大電力および大面積表面波励起プラズマ装置
- 25pYK-4 水素圧媒体をもちいた軽元素層状化合物の圧力誘起構造変化(グラファイト, LB膜,領域7(分子性固体・有機導体))
- 28pWN-6 渦巻き状グラファイトの高圧下構造(グラファイト・クラスター・クラスレート)(領域7)
- フッ素添加DLC膜の除菌特性とトライボロジー
- ナノダイヤコーティング
- SAW素子の開発
- 磁場中でのグラファイトのレーザーアブレーションと窒化炭素薄膜の形成
- 20aXF-11 静水圧力下におけるグラファイトボールの粉末 X 線回折実験
- 磁場中でのグラファイトのレーザーアブレーション
- プラズマを用いるナノ結晶炭素構造体研究の新展開 (特集 プラズマ科学の開発と応用)
- 科学解説 イオン注入によるダイヤモンドの電導性制御
- 負の電子親和力を有するn型半導体ダイヤモンドからの電界電子放出機構(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- マイクロストリップ線路を用いた大気圧CVD用マイクロ波励起吹き出しプラズマ
- マイクロストリップラインを用いたマイクロ波励起リモートプロセスプラズマ
- マイクロストリップ線路を用いたマイクロ波励起大気圧吹き出し形プラズマの放電特性
- 2.45GHzマイクロ波を用いた大気圧吹き出し形プラズマ
- ナノ結晶ダイヤモンドコーティング
- マイクロストリップ型マイクロ波励起大気圧吹き出しプラズマによりカーボン物質合成
- マイクロ波励起大気圧吹き出しプラズマの各種食材表面照射に関する予備実験
- n型半導体立方晶窒化ホウ素単結晶からの電界電子放出機構(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 大面積・低温・低圧表面波プラズマCVDを用いたグラフェン透明導電膜の合成
- 表面波励起マイクロ波プラズマCVD法によるグラフェンのロールtoロール合成
- 大面積低温合成グラフェンの透明導電膜応用
- マイクロ波プラズマCVD法を用いたグラフェン量産技術 (特集 透明導電膜の今とこれから)
- 大面積・低温・低圧表面波プラズマCVDを用いたグラフェン透明導電膜の合成
- プラズマ先端材料プロセス
- プラズマ先端材料プロセス