石原 正統 | (独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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概要
関連著者
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石原 正統
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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長谷川 雅考
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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石原 正統
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谷口 尚
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中野 智志
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古賀 義紀
産業技術総合研 ナノチューブ応用研究セ
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長谷川 雅考
(独) 産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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(独) 産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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石原 正統
(独) 産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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山田 貴壽
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著作論文
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- ナノ結晶ダイヤモンド薄膜CVD用大電力および大面積表面波励起プラズマ装置
- 25pYK-4 水素圧媒体をもちいた軽元素層状化合物の圧力誘起構造変化(グラファイト, LB膜,領域7(分子性固体・有機導体))
- フッ素添加DLC膜の除菌特性とトライボロジー
- ナノダイヤコーティング
- SAW素子の開発
- 磁場中でのグラファイトのレーザーアブレーションと窒化炭素薄膜の形成
- プラズマを用いるナノ結晶炭素構造体研究の新展開 (特集 プラズマ科学の開発と応用)
- ナノ結晶ダイヤモンドコーティング
- 大面積・低温・低圧表面波プラズマCVDを用いたグラフェン透明導電膜の合成
- 表面波励起マイクロ波プラズマCVD法によるグラフェンのロールtoロール合成
- 大面積低温合成グラフェンの透明導電膜応用
- マイクロ波プラズマCVD法を用いたグラフェン量産技術 (特集 透明導電膜の今とこれから)