Fe-Ni合金めっきしたCu細線におけるMI効果の電析層厚依存性
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概要
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- 1998-11-30
著者
-
内山 剛
名古屋大学大学院医学系研究科・細胞生理学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学部
-
丸山 耕一
分子研
-
内山 剛
名古屋大学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学研究科電気工学専攻
-
佐藤 駿
東京工業大学大学院
-
丸山 耕一
東京工業大学大学院理工学研究科修士課程
-
山口 淳
東京工業大学工学部
-
毛利 佳年雄
名古屋大
-
大野 湶
東京工業大学工学部
-
大野 湶
元東京工業大学工学部
-
大野 湶
東京工業大学金属工学科
-
大野 湶
東京工業大学
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