パルス電流励磁によるスパッタ薄膜マイクロMIセンサ (<特集>センサ)
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概要
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The magneto-impedance (MI) effect was observed in a sputtered FeCoB thin film of 1.7 μm thickness, 1 mm length, and 10 μm width when a very sharp pulse current was applied to the film. A CMOS multivibrator was used to obtain a sharp pulse. The pulse width at half the magnitude of the pulse applied to the film was around 2.5 ns, voltage change ratios of -1 mV/Oe and 120 mV/Oe were obtained in films annealed in transverse dc fields of 60-70 Oe and 100 Oe, respective1y. The conditions for generation of the skin effect were analyzed with respect to the pulse shape, pulse frequency, and critical sinusoidal wave frequency.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1997-04-15
著者
-
内山 剛
名古屋大学大学院医学系研究科・細胞生理学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学部
-
内山 剛
名古屋大学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学
-
毛利 佳年雄
名古屋大学工学研究科電気工学専攻
-
沈 麗萍
名古屋大学大学院電気工学専攻
-
比嘉 孝治
名古屋大学
-
沈 麗萍
名古屋大学工学研究科電気工学専攻
-
宇ノ木 保元
多摩電気工業(株)
-
菊池 和政
多摩電気工業(株)
-
沈 萍麗
名古屋大学大学院電気工学
-
比嘉 孝治
名古屋大学工学部
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