大野 湶 | 元東京工業大学工学部
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概要
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大野 湶
元東京工業大学工学部
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東京工業大学工学部 : 百年記念館
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東京工業大学理工学研究科材料工学専攻
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東京工業大学・工学部・金属工学科
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東京工業大学 工学部 [現 : (株)村田製作所
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東京工業大学 大学院
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丸山 耕一
東工大院
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大野 湶
東工大工
著作論文
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- 酸性浴からの電析コバルトの優先配向
- 次亜リン酸およびジメチルアミンボランを還元剤とする鉄-ニッケル合金の無電解析出
- 無電解Fe-Ni系合金めっきしたCu細線磁気インピーダンス素子の作製と評価
- Fe-Ni合金めっきしたCu細線におけるMI効果の電析層厚依存性
- 無電解Fe-Ni系合金めっきしたCu細線MI素子の作製と評価
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- Cu細線上に無電解FeNiPめっきしたMI素子
- 無電解Co-BおよびCo-Fe-B析出への非晶質合金基板組成の影響
- 非晶質薄帯を下地層としたCo系電析膜の磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- 非晶質薄帯上に電析したCo-Ni層への熱処理による界面応力の効果
- Co系電析への基板の影響
- 非晶質薄帯上へのコバルト電析の電気化学的特性および析出膜の特性
- 非晶質薄帯上への無電解Co-Fe合金の析出電気化学的特性
- 液体急冷非晶質薄帯上に析出した無電解CoFe系合金めっき膜の析出挙動と性状
- 非晶質薄帯上へのCo系合金電析の電気化学的特性及び析出膜の特性
- NiSiB非晶質薄帯基板を用いた無電解CoFeBめっき膜の形成と熱処理効果
- 多孔質シリコン細孔中に析出した無電解Co系めっき合金の形状および磁気特性
- 多孔質シリコンを基板とした無電解Co系合金めっき膜の形状および磁気特性
- 表面技術における志向性