反応性シールド型真空アーク蒸着法によるAlN膜の合成
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概要
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- 1999-06-08
著者
-
滝川 浩史
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
松室 昭仁
名古屋大学工学研究科
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松室 昭仁
名古屋大学
-
滝川 浩史
豊橋技術科学大学
-
榊原 建樹
豊橋技術科学大学 電気電子工学系
-
木村 圭作
豊橋技術科学大学
-
宮野 竜一
豊橋技術科学大学
-
BENDAVID Avi
CSIRO
-
MARTIN Philip
CSIRO
-
堤 浩一
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社
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木村 圭作
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
堤 浩一
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン
-
Bendavid Avi
Csiro Australia
-
Martin Philip
Csiro Australia
-
榊原 建樹
豊橋技術科学大学
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