Hydroxyl-Radical-Assisted Growth of ZnO Films by Remote Plasma Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2004-11-15
著者
-
中村 純
広大情報メディア
-
Aoki Toru
Research Institute Of Electronics Shizuoka University・graduate School Of Electronic Science And Tech
-
Aoki Toru
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Nakamura Atsushi
Photonic Devices Laboratory Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
NAKAMURA Atsushi
Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University
-
SHIGEMORI Satoshi
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
TEMMYO Jiro
Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University
-
SHIMIZU Yoshimi
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
Temmyo Jiro
Photonic Devices Laboratory Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Shimizu Yoshimi
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Shigemori Satoshi
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Aoki Toru
Reseach Institute of Electronics, Shizuoka University, Hamamatsu 432-8011 Japan
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