ナノスケール自己配列孔を有するSiO_2下地上のTbFeCo薄膜の抗磁力
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
塚本 新
日本大学理工学部
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部
-
伊藤 祐二
(現)富士通研究所
-
青柳 雄大
現東ソー
-
森崎 賢二
日本大学理工学部 電子情報工学科
-
佐藤 太亮
日本大学理工学部 電子情報工学科
-
伊藤 祐二
日本大学理工学部 電子情報工学科
-
岡部 祐輔
物質応用化学科
-
大月 譲
物質応用化学科
-
チー ウオンアン
デルフト大学
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部・電子情報工学科
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部電子情報工学科
-
伊藤 彰義
日大・理工
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