フェムト秒レーザーを用いたGdFeCo薄膜磁化動特性観察・制御(ハードディスクドライブ及び一般)
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概要
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フェムト秒パルスレーザーを用いたポンプ・プローブ法により、Gd_<23.1>Fe_<71.9>Co_<5.0>アモルファス・フェリ磁性薄膜について超高速磁化応答を測定した。高強度ポンプ・ビーム光により超短時間媒体を加熱することで歳差運動を励起し、低強度プロープ光を用い光励起状態を磁気光学Kerr効果により観察した。歳差運動周波数、実効的Gilbertダンピング定数は共に大きな温度依存性を示し、試料温度が角運動補償温度に近づくにつれ急峻に増大した。測定結果は、熱アシスト磁気記録等においてringingの少ない高速磁化反転を行う際、角運動量補償点が重要なパラメーターとなることを示し、これは熱アシストにより磁化動特性を制御できる可能性も意味する。
- 2006-02-03
著者
-
塚本 新
日本大学理工学部
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部
-
西村 純平
日本大学理工学部
-
Stanciu D.
Radboud Univ.
-
Kimel A.
Radboud Univ.
-
Hansteen F.
Radboud Univ.
-
Kirilyuk A.
Radboud Univ.
-
Rasing T.
Radboud Univ.
-
Kimel A.
Radboud Univ. Nijmegen
-
Rasing T.
Radboud Univ. Nijmegen
-
Th. Rasing
Research Institute For Materials
-
Stanciu D.
Radboud Univ. Nijmegen
-
Hansteen F.
Radboud Univ. Nijmegen
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部・電子情報工学科
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部電子情報工学科
-
伊藤 彰義
日大・理工
-
Rasing Theo
Nsrim Institute University Of Nijmegen Toernooiveld
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