分子動力学法による単結晶基板および多結晶基板上への Cu 薄膜積層初期過程の観察
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概要
著者
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塚本 新
日本大学理工学部
-
伊藤 彰義
日本大学理工学部
-
中川 活二
日本大学理工学部
-
中川 活二
日本大学
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伊藤 彰義
日本大学理工学部・電子情報工学科
-
高橋 常樹
日本大学大学院理工学研究科電子工学専攻
-
井出 悠介
日本大学大学院理工学研究科電子工学専攻
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