伊藤 祐二 | (現)富士通研究所
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概要
関連著者
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伊藤 祐二
(現)富士通研究所
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伊藤 彰義
日本大学理工学部・電子情報工学科
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中川 活二
日本大学
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伊藤 彰義
日本大学理工学部電子情報工学科
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伊藤 彰義
日大・理工
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伊藤 彰義
日本大学理工学部
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中川 活二
日本大学理工学部
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塚本 新
日本大学理工学部
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塚本 新
日大理工
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伊藤 彰義
日大理工
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中川 活二
日本大学理工学部電子情報工学科
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青柳 雄大
現東ソー
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伊藤 祐二
日本大学理工学部 電子情報工学科
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中川 活二
日大理工
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片山 利一
東邦大理
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片山 利一
東邦大薬
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森崎 賢二
日本大学理工学部 電子情報工学科
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伊藤 祐二
日大院
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竹内 誠人
日大院
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片山 利一
東邦大学
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伊藤 祐二
富士通
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安達 佳良
日大院
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佐藤 太亮
日本大学理工学部 電子情報工学科
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岡部 祐輔
物質応用化学科
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大月 譲
物質応用化学科
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チー ウオンアン
デルフト大学
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木村 嘉弘
日本大学理工学研究科
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伊藤 祐二
日本大学大学院理工学研究科
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伊藤 祐二
日大理工
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青柳 雄大
日大理工
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森崎 賢二
日大理工
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木村 嘉広
日大理工
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青柳 雄大
日大院
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佐藤 直人
日大院
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稲葉 章
日立マクセル
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関根 正樹
日立マクセル
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島崎 勝輔
日立マクセル
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太田 憲雄
日立マクセル
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島崎 勝輔
日立マクセル株式会社 開発本部
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社開発本部
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社 開発本部
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太田 憲雄
日立マクセル(株)
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Ota Norio
R&d Division Hitach Maxell Ltd.
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Ota Norio
Development & Technology Division Hitachi Maxell Ltd.
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太田 憲雄
日立マクセル 開発本部
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Ohta Norio
Tsukuba Research Lab. Hitachi Maxell Ltd.
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太田 憲雄
日立マクセル株式会社
著作論文
- 高速昇温熱処理によるCu添加FePt微粒子膜の作製
- 高速昇温熱処理によるFePt微粒子膜の作製(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- 高速昇温熱処理によるFePt微粒子膜の作製
- ナノスケール自己配列孔を有するSiO_2下地上のTbFeCo薄膜の抗磁力
- 高速昇温熱処理したFePtの断面構造及びTbFeCo/FePtの表面構造
- SiO上FePt配向膜とそれを下地としたTbFeCo積層膜の磁気特性
- 高速昇温熱処理により作成したFePt孤立粒子の磁気特性及び構造特性
- 高速昇温熱処理によるFePtの結晶構造および磁気特性
- 高い結晶磁気異方性を有するFePt上のTbFeCoの磁気特性
- 多値光磁気記録媒体の記録磁界感度向上