シリカ粉体表面に加熱生成されたシロキサンの水およびアルコールに対する反応性
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概要
著者
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藤 正督
名古屋工業大学 セラミックス基盤工学研究センター
-
近沢 正敏
東京都立大学大学院 工学研究科
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藤 正督
東京都立大学大学院工学研究科
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藤 正督
東京都立大学工学研究科応用化学専攻
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近沢 正敏
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
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近沢 正敏
東京都立大学大学院工学研究科
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近沢 正敏
東京都立大学大学院
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