シリカの表面水酸基の構造評価 : 化学反応法と分子吸着法
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概要
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- 1999-03-10
著者
-
渡辺 徹
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
武井 孝
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
藤 正督
名古屋工業大学 セラミックス基盤工学研究センター
-
近沢 正敏
東京都立大学大学院 工学研究科
-
藤 正督
東京都立大学大学院工学研究科
-
安宅 真和
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
小西 とも子
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
藤 正督
東京都立大学工学研究科応用化学専攻
-
渡辺 徹
東京都立大学 工学部
-
近沢 正敏
東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
近沢 正敏
東京都立大学大学院工学研究科
-
近沢 正敏
東京都立大学大学院
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