Measurement of mean free paths for inelastic electron scattering of Si and SiO_2
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概要
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- Published for the Japanese Society of Electron Microscopy by Oxford University Pressの論文
- 2002-06-01
著者
-
進藤 大輔
東北大 多元研
-
SHINDO Daisuke
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
-
Lee C‐w
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Shindo Daisuke
Institute For Advanced Materials Processing Tohoku University
-
Lee C‐w
The School Of Information Communications And Electronics Engineering The Catholic University Of Kore
-
IKEMATSU Yoichi
Institute for Advanced Materials Processing, Tohoku University
-
LEE Chang-Woo
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
-
Ikematsu Y
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Ikematsu Yoichi
Institute For Advanced Materials Processing Tohoku University
-
Lee Chang-woo
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Shindo Daisuke
Institiute For Advanced Materials Processing Tohoku University
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