Measurement of mean free paths for inelastic electron scattering of Si and SiO_2
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- Published for the Japanese Society of Electron Microscopy by Oxford University Pressの論文
- 2002-06-01
著者
-
進藤 大輔
東北大 多元研
-
SHINDO Daisuke
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
-
Lee C‐w
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Shindo Daisuke
Institute For Advanced Materials Processing Tohoku University
-
Lee C‐w
The School Of Information Communications And Electronics Engineering The Catholic University Of Kore
-
IKEMATSU Yoichi
Institute for Advanced Materials Processing, Tohoku University
-
LEE Chang-Woo
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
-
Ikematsu Y
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Ikematsu Yoichi
Institute For Advanced Materials Processing Tohoku University
-
Lee Chang-woo
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Shindo Daisuke
Institiute For Advanced Materials Processing Tohoku University
関連論文
- ローレンツ顕微鏡法による電磁鋼板の動的磁区構造観察
- 透過電子顕微鏡法によるSm-Fe-N系磁性粒子の微細組織と磁区構造解析
- 遍歴電子メタ磁性体La(Fe_Si_)_の1次磁気相転移の動的観察
- TEM用二探針ピエゾ駆動ホルダを利用した構造・電磁場・伝導性のマルチ解析 (電顕内でのその場ナノ物性計測)
- 2探針ピエゾ駆動ホルダーの開発とTEMによる多元的材料評価の試み
- 二探針ピエゾ駆動ホルダーを用いた導電性接着剤中の金属微粒子の電気的評価
- エレクトロニクス分野の導電性接着剤技術の動向(電子部品・実装技術基礎講座「続・導電性接着剤」第7回 最終回)
- ローレンツ顕微鏡
- カーボンナノチューブ修飾電極における電気化学的パラメータの再現性(1)
- 20pRB-3 電子線ホログラフィによる格子欠陥近傍の磁化分布解析(20pRB 領域10シンポジウム:TEMによる最先端局所構造解析,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))