電子線ホログラフィーを用いたNi_<51>Fe_<22>Ga_<27>強磁性形状記憶合金の磁区構造評価
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概要
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- 2003-12-20
著者
-
進藤 大輔
東北大学多元物質科学研究所
-
石田 清仁
東北大学大学院工学研究科
-
及川 勝成
東北大学大学院工学研究科金属フロンティア工学専攻
-
及川 勝成
東北大学工学研究科
-
村上 恭和
東北大学多元物質科学研究所
-
進藤 大輔
東北大 多元研
-
貝沼 亮介
東北大学大学院工学研究科材料物性学専攻
-
及川 勝成
産業技術総合研究所東北センター
-
石田 清仁
東北大学大学院
-
貝沼 亮介
東北大学大学院工学研究科
-
Shindo Daisuke
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Shindo Daisuke
Institute For Materials Research(imr) Tohoku University
-
及川 勝成
産業技術総合研 東北セ
-
及川 勝成
産業技術総合研
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