ゾル ・ ゲルプロセスによる遷移金属イオンドーピングTiO_2膜の調製とその光触媒性能
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概要
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- 粉体粉末冶金協会の論文
- 2003-06-15
著者
-
高畠 進義
石川工高
-
中村 静夫
石川工試
-
大橋 憲太郎
金沢工業大学
-
中村 静夫
石川県工業試験場
-
高畠 進義
石川県立工業高等学校
-
児島 雅之
金沢工業大学
-
大橋 憲太郎
金沢工大
-
中村 静夫
石川県工業試験場化学食品部
-
中村 静夫
石川県工試
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