ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の作製と評価-2- (酸化物超伝導体の合成と特性<特集>)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 2G16 超電導薄膜の合成
- ゾル・ゲルプロセスによる各種可視光応答型TiO_2積層膜の調製とその光触媒性能
- ゾル・ゲルプロセスによる可視光応答型TiO_2/V_2O_5/ITO積層膜の調製とそと光触媒性能
- ゾル ・ ゲルプロセスによる遷移金属イオンドーピングTiO_2膜の調製とその光触媒性能
- 塗布熱分解法によるBi系銅酸化物超伝導膜作製とエピタキシャル成長性
- Bi系銅酸化物超伝導バルク体の電気化学的処理(II)
- Bi系銅酸化物超伝導バルク体の電気化学的処理
- Bi系高Tc超伝導ペーストによるAg, Mgo基板上への厚膜作製
- Bi系2223相酸化物-プロピオン酸溶液を用いた塗布膜の作製
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の作製に於ける出発組成と特性
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の作製と評価-2- (酸化物超伝導体の合成と特性)
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の水,有機溶媒,酸の影響 (酸化物超伝導物質と材料)
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の水,有機溶媒,酸の影響
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の作製と評価II
- ゾル・ゲル法によるBi系銅酸化超伝導膜の水,有機溶媒,酸の影響II
- ゾル-ゲル法によるBi系銅酸化物超伝導膜の作製と評価 (酸化物超伝導物質と材料)