熱CVD法によるジルコニア膜合成時の熱分解反応速度定数
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概要
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常圧下の熱CVD法で, ヘリウム中でのジルコニウムテトラノルマルプロポキシド (ZTNP) の熱分解により, 基板上にZrO<SUB>2</SUB>膜を合成した.そして, ZTNPの熱分解速度と水平型反応器内の堆積速度分布を測定した.熱分解反応に及ぼす反応温度の影響を調べた結果, 熱分解反応速度定数は反応温度とArrheiusプロットで直線の相関性を示した.反応凝集モデルにより基板上への堆積速度分布を予測した結果, 反応器入口近傍での計算結果は実験値を比較的良く表現し, 堆積の主体はモノマーあるいは構成分子数の少ない成膜種であることが判った.<BR>成膜種の拡散が堆積速度を支配する領域での堆積速度分布から成膜種の大きさを推定した.同伴ガス流量1.10×10<SUP>-2</SUP>mol s<SUP>-1</SUP>, 反応速度753K, 供給原料濃度0.008mol%の時, 成膜種径は約0.88nmであり, ZrO<SUB>2</SUB>分子10個程度で構成されるクラスター群であることが明らかとなった.<BR>これらの結果は, 反応器内部に向かうにしたがい成膜種の径が大きくなることを示唆している.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
-
中村 静夫
石川工試
-
川西 琢也
金沢大学工学部
-
林 良茂
金沢大学工学部
-
中村 静夫
石川県工業試験場
-
中村 静夫
石川県工業試験場化学食品部
-
中村 静夫
石川県工試
-
後藤 浩平
金沢大学工学部物質化学工学
-
林 良茂
金沢大学工学部物質化学工学
-
川西 琢也
金沢大学工学部物質化学工学
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