薄膜絶縁層を有するSiトンネルダイオードの作製と実証
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概要
著者
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空田 晴之
松下電器産業 先端研
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森田 清之
松下電器産業(株)半導体社
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森本 廉
松下電器産業株式会社 中央研究所
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森本 廉
松下電器産業株式会社先端技術研究所
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森本 廉
松下電器産業 (株) 半導体研究センター
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森田 清之
松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター
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