28p-K-13 溶液気化方式MOCVD膜中における残留カーボンの評価

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概要

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• 1999-03-28

著者

• 上田 路人

  松下電器産業(株)先端技術研究所

• 薮内 康文

  (株)松下テクノリサーチ

• 森田 清之

  松下電器産業(株)半導体社

• 大塚 隆

  松下電器産業(株)中研

• 東條 二三代

  (株)松下テクノリサーチ

• 森田 弘洋

  (株)松下テクノリサーチ

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