Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす基板エッチングの影響
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果ベクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
-
垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
-
Ni-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性と微細構造 -Mn-Ir膜の成膜レートとIr量に対する依存性-
-
Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす成膜雰囲気中の残留ガスの影響
-
21pWD-2 窒化鉄薄膜の偏極中性子回折による巨大磁気モーメントの検証(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
-
Co-Si-O素材組換えターゲットにより作製されるグラニュラー薄膜の成膜条件と構造および磁気特性
-
高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
-
粒子成長速度がFeナノ粒子の飽和磁化に及ぼす影響
-
高周波デバイス対応磁性ナノ粒子/ポリマー複合材料
-
超常磁性ナノ粒子集合体形成とその高周波磁気特性
-
ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程
-
ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程(ハードディスクドライブ及び一般)
-
c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システムおよび一般)
-
c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システム及び一般)
-
ポストアニールを用いた非磁性元素拡散によるCoCrPtエピタキシャル垂直磁気記録媒体の粒間相互作用低減
-
反強磁性的交換結合を有するCo/Pd系多層垂直磁化膜の磁気特性
-
めっき裏打ち膜付きAl/NiP基板の開発 : 強磁性層/反強磁性層の作製工程の低減
-
反強磁性/軟磁性積層裏打ち膜における磁化過程の軟磁性膜厚依存性
-
Ti/CoCrPt/Ti垂直記録媒体におよぼす in situ anneal の効果
-
Ti下地, Tiキャップ層を用いたCoCrPt系 in situ anneal 媒体の磁気特性の向上
-
Mn-Si-Cスパッタリング薄膜の構造および磁気特性
-
RKKY的層間結合を有する積層裏打ち膜の交換結合磁界の増大
-
新規めっき裏打ち層付Ni-P/Al基板の作製 : 磁気特性並びに単磁区化
-
磁気的層間結合を利用した裏打ち膜の高浮遊磁界耐性化
-
FeTaN/CoCrPtB垂直二層膜媒体用中間層の構造制御と薄膜化
-
CoCr/C中間層の導入によるCoCrPt系垂直薄膜媒体の高K_u化
-
CoCrPtB垂直薄膜媒体の磁気特性の温度変化
-
高角型比・高規格化保磁力CoCr基垂直磁気記録媒体の材料設計
-
インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性
-
c面配向MnSbスパッタ薄膜の垂直磁気異方性の温度特性
-
CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界に関する考察
-
非磁性CoCr/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記憶媒体の磁気特性と微細構造
-
種々の下地・磁性層材料を用いたCoCr基垂直薄膜媒体の初期層厚の定量解析
-
Co基垂直薄膜媒体のコラム状晶内結晶磁気異方性 : 垂直トルクの膜厚依存性の解析
-
光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
-
c面高配向MnSb薄膜作製プロセスの低温化
-
MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
-
プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
-
CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合におけるMgO障壁層の結晶配向性制御および巨大トンネル磁気抵抗効果の導出
-
高密度低電子温度プラズマを用いて作製した強磁性トンネル接合
-
スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製
-
MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果(PtMnSb相の析出・再結晶と磁気光学構造の波長シフト)
-
MnSbM(M=Pt, Au, Pd)薄膜の構造および磁気光学特性
-
MnSbPt薄膜の光学および磁気光学効果
-
MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
-
スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 (Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
-
MnSbPd薄膜の構造および磁気光学特性
-
巨大磁気力-回転角を有するMnSbPt薄膜の微細構造
-
MnSbPt薄膜の光学および磁気光学特性
-
mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果べクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
-
コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
-
垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
-
今, 改めて問われる成膜プロセスの質
-
6)クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製(画像情報記録研究会)
-
清浄雰囲気中で作製したCo基薄膜媒体の記録再生特性(結晶粒径と静磁気的相互作用)
-
清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
-
異方性及び等方性CoCrTa媒体の磁気的微細構造(磁性結晶粒径・粒間相互作用と磁気クラスター径)
-
清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜磁気記録媒体(磁気異方性と粒間相互作用へのNi添加効果)
-
清浄雰囲気中で作製したCoCrTa薄膜媒体のCr偏析構造
-
Co基薄膜媒体の粒間相互作用と記録再生特性 (清浄雰囲気中で作製した薄膜媒体の記録再生特性)
-
薄膜媒体のリバースDCイレーズノイズと磁化状態 (清浄雰囲気中で作製した薄膜媒体のノイズ特性)
-
微量酸素添加スパッタ雰囲気中で作製したCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果
-
Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼすFe-Si下地層の影響
-
成膜雰囲気制御によるCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果の高感度化
-
極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
-
高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
-
Fe-Si下地層上に作製したCo/Cu多層膜の面内結晶粒径の増大
-
Co/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性に及ぼす成膜雰囲気清浄性の効果
-
M-Co(M=Au, Ag, Cu)グラニュラー薄膜の構造と磁気特性 -固容体形成に及ぼす成膜雰囲気中不純物の影響-
-
極清浄雰囲気中で作製したAg-Co薄膜の構造とGMR効果
-
Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす成膜雰囲気の清浄性の影響
-
Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす基板エッチングの影響 (GMR効果の温度依存性)
-
種々のN濃度を有するα'及びγ'-Fe-N相の合成と磁気モーメント(薄膜)
-
種々のN濃度を有するγ'-Fe-N/Cu多層膜の合成と磁気モーメント
-
α'-Fe-B相の合成と磁気特性
-
C, N共添加α'-Fe相の合成と結晶磁気異方性
-
α'-Fe-Co-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性
-
α'-Fe-Cスパッタ薄膜の結晶磁気異方性
-
α'-Fe-Cスパッタ薄膜の構造と熱安定性
-
トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
-
トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
-
Mn_3Ir反強磁性合金による巨大交換バイアス
-
Co-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性の強磁性層組成依存性
-
清浄雰囲気中で作製されたγ-Fe-N/Cu多層膜の構造と磁気モーメント
-
α'-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
-
清浄雰囲気中で作製されたFe_N_2薄膜の構造
-
(FeCo)-Nマルテンサイト薄膜の合成と熱安定性
-
Fe_N_2スパッタ薄膜の微細構造と磁性
-
CS-8-1 超高密度ハードディスク用再生ヘッドの材料・プロセス技術(CS-8.次世代情報ストレージ技術の動向,シンポジウムセッション)
-
CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合膜の積層界面制御による障壁膜配向制御とトンネル磁気抵抗効果
-
高濃度オゾン酸化法による金属Al膜の酸化過程とそれを用いて作製した強磁性トンネル接合膜の磁気抵抗効果
-
Mn_3Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
-
Mn-Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
-
Mg-Oバリアを用いた多結晶強磁性トンネル接合膜の作製
-
Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす基板ならびに下地層の影響
-
Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす不純物ガスの影響
-
Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす基板エッチングの影響 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
-
Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす基板エッチングの影響
-
清浄零囲気中で作製したNi-Fe/Cu多層スパッタ膜の構造とGMR効果
-
清浄雰囲気中で作製したNiFe/Cu多層スパッタ膜の構造とGMR効果
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク