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Sumitomo Osaka Cement Co. Ltd. Chiba Jpn | 論文
- 高輝度放射光のX線CTイメージングを用いた高強度鋼中の介在物の定量的評価(高精度な新非破壊検査技術)
- 1101 光造形法によるマイクロ材料の創製と評価(GS-3 強度評価)
- OS0602 リアルサイズのモデルコンポジットを用いたモードII繊維/樹脂界面はく離靱性の評価(先進複合材料の強度・特性評価,オーガナイズドセッション)
- 723 マイクロモデルを用いた繊維/樹脂界面微視はく離靭性の抽出(GS-3 結晶・破壊)
- 繊維2本および繊維4本のモデル複合材料を用いた繊維/樹脂界面はく離じん性の実験的評価とFRPじん性への寄与の検討 (特集 破壊力学)
- 406 マイクロモデルによる繊維/樹脂界面微視はく離靭性の評価と複合材靭性に関する検討(界面および微視構造の影響II,オーガナイズドセッション8.破壊の発生・進展とその解析・評価・計測)
- 405 モデルコンポジットを用いた繊維/樹脂界面の破壊靭性評価(疲労・摩耗・界面,破壊の発生・進展とその解析・評価・計測,オーガナイスドセッション9)
- Proposal of a Next-Generation Super Resolution Technique
- Photolithography System Using Modified Illumination
- Photolithography System Using a Combination of Modified Illumination and Phase Shift Mask
- Photolithography System Using Annular Illumination : Photolithography
- Photolithography System Using Annular Illumination
- 813 金属材料における疲労き裂発生過程の結晶塑性シミュレーション(GS-3 疲労強度)
- 301 CNT/紫外線硬化樹脂複合材料マイクロエレメントの機械的特性評価とCNT添加量向上の検討(GS-3 ナノ)
- Electroplated Reflection Masks for Soft X-Ray Projection Lithography
- Resist Performance in 5 nm Soft X-Ray Projection Lithography
- Reduction Imaging at 4.5 nm with Schwarzschild Optics
- Fabrication of 0.1μm Line-and-Space Patterns using Soft X-Ray Reduction Lithography
- Improvement of the Uniformity of Tungsten / Carborn Multilayers by Thermal Processing
- Sub-0.1 μm Resist Patterning in Soft X-Ray (13 nm) Projection Lithography