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Ntt Lsi研究所 | 論文
- ECRプラズマ酸化によるナノパタン反転法とSi量子細線加工
- 無調整回路技術による低電力156Mb/s光受信用IC
- S/Hスイッチを用いた156Mb/sモノリシック識別・タイミング抽出PLL回路
- 13p-F-5 NTT常伝導リング軌道解析結果と実測値の比較
- 超高速集積回路用GaAs MESFETの0.1μm WSiNゲート形成技術
- 3p-ZE-3 有限周期系へのブロッホの定理の適用条件
- HBTを用いた高速高出力IC用レベルシフト回路
- 慣性遅延を考慮した効率的遷移数見積り手法
- 斜入射照明露光法における実解像度向上
- リソグラフィ 超々LSIを作り出すキ-テクノロジ- (放射光)
- MPEG2多重/分離LSIのリアルタイムファームウェア構成法
- 引き上げ法シリコン基板中の酸素濃度とMOS素子特性
- X線リソグラフィ- (次世代半導体プロセス技術)
- EOSによるリングオシレータの評価
- OBIC手法によるCMOS-LSIの故障解析
- 次世代光通信用超高速 IC の開発動向
- 0.5ミクロンBiCMOS LSI用デバイス技術 (0.5ミクロンBiCMOSゲ-トアレイ設計・製造技術)
- アクティブ層にエッチストップ層を用いた薄膜SOI形成プロセス
- LSIプロセスを追う:視覚化のためのコンピューターシミュレーション
- 半導体A(シリコン)