スポンサーリンク
Ntt Lsi研究所 | 論文
- 20aPS-38 γ-Feにおけるスピンスパイラル構造と格子歪(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSA-29 Cr_2O_3薄膜表面における電子構造と外部電場効果(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pPSA-7 MgO/強磁性体/MgOサンドイッチ構造の結晶磁気異方性に対する電場効果(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・遍歴磁性等),領域3,磁性,磁気共鳴)
- 25pPSA-5 Cr_2O_3薄膜における電子構造と外部電場効果(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・遍歴磁性等),領域3,磁性,磁気共鳴)
- CBE成長および熱処理GaAs表面のSTM観察
- MOVPE 法 GaAs の炭素ドーピングに対するキャリアガス流量の影響 : エピタキシー I
- CBr_4を用いた炭素ドープInGaAs結晶の成長 : 半導体液相成長II
- MOVPE法による界面平坦性、急峻性の制御とそれらの光学的・電気的特性への影響
- MOCVD成長GaAs、AlAsの表面ステップ形状
- MOCVD,MBE,CBE成長GaAsの表面平坦性のAFMによる評価
- 大規模科学技術計算向けSIMD拡張スカラプロセッサの提案とその評価(ARC-4 : アーキテクチャII,2007年並列/分散/協調処理に関する『旭川』サマー・ワークショップ(SWoPP旭川2007))
- 極低電力情報端末用LSIの研究開発プロジェクトの概要
- 50-GHzf_T,70-GHzf_シリコンバイポーラ技術 : USST
- 空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成
- 1チップ指紋認証LSI技術
- I-021 画素並列処理を用いた指紋谷線強調アルゴリズム(I分野:画像認識・メディア理解)
- D-12-3 新しい相関値による指紋認証アルゴリズム
- D-12-2 画素並列処理を用いた指紋隆線強調アルゴリズム
- D-12-1 1 チップ指紋認証 LSI に適した指紋画像回転手法
- C-12-11 指紋画像のオンチップ認証処理に適したセルラーロジックプロセッシング回路
スポンサーリンク