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NEC光・超高周波デバイス研究所 | 論文
- 光素子実装における加工技術 (特集「光素子製造に関する精密加工技術」)
- 光デバイス実装技術の最新動向 (特集 時代はメタル配線から光配線へ 光回路実装探検隊)
- 塩化物原料を用いた3-5族化合物半導体の原子層エピタキシ-
- MOVPE 選択成長と半導体集積回路への応用
- 高利得・高消光比S字斜め端面型SSC-SOA
- WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術
- 周期バイアス用デバイスシミュレータを用いたGaAs MESFET大信号動作時の解析
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- 埋め込みp層による高出力GaAs MESFETの2端子耐圧の向上
- 周期バイアス用デバイスシミュレータによるGaAs HJFETマーク率効果の解析
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- HJFETカスコード接続による基板トラップ効果の低減
- GaAs MESFETにおける基板トラップ効果に対する埋め込みp層の影響
- HJFET埋め込みp層におけるドレインラグのシミュレーション
- p層バッファによるドレインラグ現象のシールド効果
- 高速POFデータリンク用低閾値650nmAlGaInP半導体レーザ
- Tb/s光スイッチシステム用半導体光増幅器の雑音特性
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