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豊橋技術科学大学電気・電子情報工学 | 論文
- フラクタル状多層薄膜の作製と電磁波の伝搬特性
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたMOSFETおよびLEDの作製
- シンクロトロン放射光を用いたテフロン薄膜の作製と評価
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- CS-5-3 Si基板上への無転位III-V-N混晶層のヘテロエピタキシャル成長(CS-5.異種材料融合デバイス技術,シンポジウム)
- 03aB06 III-V-N混晶-シリコン構造を用いたモノリシック光電子融合システムの開発(光・電子集積回路(OEIC)時代をひらく結晶成長技術,ナノ・エピ分科会シンポジウム,第36回結晶成長国内会議)
- リモートプラズマプロセスによるSi低温エピタキシャル成長
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- シンクロトロン放射光を用いたテフロン薄膜の作製と評価
- エピタキシャルAl_2O_3を中間層に用いたSi基板上へのGaN有機金属気相エピタキシャル成長
- CuInSe_2薄膜の電子線照射効果の検討
- エピタキシャルAl_2O_3を中間層に用いたSi基板上へのGaN有機金属気相エピタキシャル成長
- CuInSe_2薄膜の電子線照射効果の検討
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- 格子歪をうけたβ-FeSi_2のバンド構造の理論的検討
- ZnO薄膜の伝導型制御
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