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産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門 | 論文
- 高温耐食性超高純度酸化物の特性評価--誘導結合プラズマ質量分析法による超高純度アルミナ中不純物の定量 (エネルギー研究終了報告)
- 2I14 炭化ケイ素粉末中の非金属不純物元素の分析
- 2I13 燃焼法による炭化ケイ素中遊離炭素の分析手法に関する検討
- 2I12 加圧酸分解/誘導結合プラズマ発光分析法によるムライト焼結体中不純物の定量
- 顕微赤外分析法による粉体混合物の均質性評価法
- 加圧酸分解 : 誘導結合プラズマ発光分析法によるサイアロン焼結体中の不純物の定量
- セラミック系複合材料の分析技術によるキャラクタリゼ-ションに関する研究 (平成8年度特別研究終了報告特集)
- 炭化ケイ素中遊離炭素の分析法に関する検討
- ファインセラミックスの化学分析法の標準化 (セラミックス評価の標準化特集号)
- セラミックス焼結体の相別分析に関する基礎的検討--酸の種類と窒化ケイ素セラミックスの溶解挙動の関係
- 加圧酸分解/誘導結合プラズマ発光分析法による窒化アルミニウム, 窒化ホウ素焼結体中の不純物の定量
- 不活性ガス融解法による酸化物系セラミックス中酸素の定量 : 浴金属の効果
- 加圧酸分解/誘導結合プラズマ発光分析法による炭化ケイ素, 窒化ケイ素焼結体中の不純物の定量
- 二次イオン質量分析法によるセラミックス焼結体の不純物分析(表面・界面・薄膜と分析化学)
- 陽電子消滅法による高分子表面の空隙解析
- 窒化ケイ素の熱伝導率に及ぼす焼結体中の酸素の影響
- 高純度オゾンによるシリコン酸化膜の作製と評価
- 活性酸素発生用イオン源
- 14pXG-14 低速陽電子ビームによる Ni・ポリマー膜の評価(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- シリコン酸化膜の構造遷移層の密度分布解析