スポンサーリンク
東北大未来科学技術共同研究センター | 論文
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- プラズマディスプレイ用電極保護膜の高性能化に向けた計算機シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学によるプラズマディスプレイ用電極保護膜材料の二次電子放出特性評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
- マイクロ波CVDを用いた高移動度ボトムゲート微結晶シリコンTFTの試作(プロセス科学と新プロセス技術)
- 減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)_2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- 半導体・平板ディスプレイとそれらの製造設備用樹脂材料の分解抑制(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- マイクロ波励起プラズマ有機金属化学気相堆積装置の開発と強誘電体Sr_2(Ta_,Nb_x)_2O_7膜の形成(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- 4.サブ100nm半導体技術の課題と展望(サブ100nm時代のシステムLSIとビジネスモデル)
- F2-1 革命期を迎える半導体技術(総論)(F.2 半導体製造工程は,今何が問題なのか)
- クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 その1 シミュレーションプログラム開発と適用
- 設備研究 東北大学未来情報産業研究館(その2)(フラクチュエーションフリーファシリティー)
- 設備研究 東北大学未来情報産業研究館(フラクチュエーションフリーファシリティー)(その1)
- 陽極酸化によるアルミニウム表面への不動態膜形成技術
- 41646 減圧操作による膜蒸留法を用いた吸収液再生技術の検討(室内空気質,環境工学II)
- 9.大画面化が進む薄型ディスプレイ技術の現状と展望(時代をひらく電子情報通信技術-技術がもたらした変革,そして更なる飛躍-)
- 41506 二酸化塩素を用いた斜行ハニカム式空気殺菌浄化システムの開発 : 斜行ハニカムの特性(汚染物質の制御と換気システム全般,環境工学II)
スポンサーリンク