スポンサーリンク
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門 | 論文
- Si(110)-16×2単一ドメイン表面の作製
- 放射光リアルタイム光電子分光で観たSi(111)表面の酸化過程
- Al(111)表面における超音速N_2ビームによる極薄AlN膜形成
- Cu_3Au表面自然酸化のシンクロトロン放射光を用いた光電子分光研究
- Si(110)面上熱酸化膜形成時におけるSiサブオキサイド時間発展のXPSリアルタイム測定(ゲート絶縁膜形成およびメモリ技術,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Si(001)表面における酸化膜形成とSiO脱離の共存機構
- 室温における酸素分子のSi(111)-7×7表面での初期吸着ダイナミクス
- Si(110)とSi(100)表面の初期酸化過程の違い : リアルタイム光電子分光測定から(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 27pXJ-15 Real-Time Synchrotron XPS and Nuclear Reaction Analysis Study on Growth Acceleration of Ultra-thin Alumina Films by Water Oxidation of NiAl
- N^+ビーム照射で形成したSi酸窒化膜における窒素化学結合状態の放射光X線光電子分光測定
- 15aPS-26 SiO 質量分析と Si-2p 光電子分光の同時計測による Si(001) 表面における SiO 脱離と酸化膜形成の反応ダイナミクス(領域 9)
- 15aPS-22 銅表面における酸素吸着反応ダイナミクス(領域 9)
- 超音速酸素分子線を用いたSi(001)表面の高温酸化過程における化学反応ダイナミクス
- パルス伸張・圧縮を同一の正分散媒質で行う光パラメトリックチャープパルス増幅法
- 26aPS-90 鉄ニクタイドにおける共鳴非弾性X線散乱の理論的研究(領域8ポスターセッション(低温(Cu,Ru,Mn,Co酸化物など,磁束量子系,鉄系超伝導体)),領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)
- X線回折法による単結晶応力測定
- キクの側芽に対するイオンビームおよびガンマ線照射により作出された変異体におけるキメラ構造の差異
- キクの葉片に対するイオンビーム照射の変異誘発効果及び再分化植物の核DNA量への影響
- 25aRB-5 能動分光法によるX線レーザー媒質のゲインの時間発展計測(25aRB 量子エレクトロニクス(量子エレクトロニクス一般),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25pXQ-8 X線レーザーによる内殻2ホール生成(超伝導体・強相関系・磁性半導体・新分光法,領域5(光物性))
スポンサーリンク