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山口大学工学部電気電子工学科 | 論文
- 126. CdZnS半導体量子井戸の励起子分子による紫外発光((8)光関連デバイス・ディスプレイ)
- 22aB8 減圧有機金属気相成長法によるMg_XZn_S混晶薄膜の成長(気相成長II)
- ZnS系量子井戸構造における紫外誘導放出機構の温度依存性
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタによる多値論理回路の可能性
- 水素変調ドープa-Si膜のエキシマレーザアニーリング
- a-Si中の水素原子とエキシマ・レーザ結晶化 : 核形成・成長に大きな影響を与えるか?(シリコン関連材料の作製と評価)
- ダブルSOI上に形成したトンネル誘電体TFTのAM-OLED駆動回路への応用(半導体材料・デバイス)
- 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 新構造TFTのAM-OLEDへの応用(シリコン関連材料の作製と評価)
- 固体YAG2 ωグリーンレーザーによる再結晶化シリコン薄膜の解析(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
- チャネル形成領域両端に極薄誘電体膜をもつ新たなTFTの提案と理論検討(半導体材料・デバイス)
- 次世代素子、Si 共鳴トンネルMOS トランジスタの提案及び理論検討
- チャネル両端に極薄誘電体膜を持つ新たなTFTの提案と理論検討
- シリコン共鳴トンネリングMOSトランジスタ : サブ0.1μm世代を見据えて
- SC-8-10 TFT用低温ポリシリコンの結晶成長
- Heガスを用いたスパッタ法によるSrTiO_3薄膜の作製
- 寄生振動サージ抑制用ダイオードクランプ付アクティブ補助部分共振スナバを用いたZVS-PWM直流昇圧型チョッパ(電子回路)
- 最小部品点数構成のソフトスイッチング高周波インバータ(小テーマ : スイッチングレギュレータ及び半導体電力変換一般)
- 新方式補助部分共振ブリッジレッグスナバを用いたソフトスイッチング正弦波PWMインバータ