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大阪産業大学 工学部電気電子工学科 | 論文
- Optimization of transparent conducting Al-doped zinc oxide filmsprepared by pulsed laser deposition
- パルスレーザー堆積法によるGa-Zn-O系透明導電膜の成膜温度の低温化
- パルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法によりSnO_2系材料を用いて作製した積層型透明導電膜
- GZO透明導電膜へのNd:YAGレーザによるアニーリング効果
- プラスチック基板上に堆積した酸化亜鉛系透明導電膜のレーザーアニーリングによる特性改善
- パルスレーザー堆積法による酸化亜鉛系透明導電膜の有機基板上への成膜
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜