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北陸先端科学技術大学院大学 | 論文
- 残響環境に頑健な音声認識のための前処理 : 音声特有の特徴の利用(認識,理解,対話,一般)
- 逆流渦キャビテーションと不安定現象
- デンドリマー内部空間を利用したサブナノPdクラスター触媒の構成原子数制御
- モンモリロナイト層間を利用したサブナノPd粒子の調製とアリル位置換反応への応用
- ヒュｰマンインタフェｰスシンポジウム2004報告
- 埋もれている大きな研究テーマ
- Cat-CVD 技術
- 触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法の現状と今後の展望
- Cat-CVD法による窒化シリコン薄膜の低温堆積 : 気相診断と膜質評価(半導体エレクトロニクス)
- 有機ELディスプレイ用水蒸気バリア膜の形成 : 低温触媒CVD装置の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
- CS-5-7 Cat-CVD法により作製した窒化シリコン膜の特性とデバイス応用(CS-5.ナノスケール時代を迎えた薄膜電子材料の展開,エレクトロニクス2)
- Cat-CVD 法によるガスバリア膜の低温形成
- Cat-CVD法の包装用ガスバリアフィルム製造工程への適用 (特集 マーケット創出の成否を決する次世代パッケージング) -- (未来のマーケットを支える技術と商品開発)
- ELAポリシリコン薄膜の大粒径化 : 結晶成長と水素の関係(シリコン関連材料の作製と評価)
- 加熱触媒体により発生させた水素原子によるプラズマレス・レジスト剥離技術(薄膜プロセス・材料,一般)
- Cat-CVD法により形成したSiNx膜の応力制御(S05-3 薄膜の強度物性,S05 薄膜の強度物性と信頼性)
- Cat-CVD法で作製したSiN_x膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
- Cat-CVD技術の現状と将来展望 : 気相診断からデバイス応用まで
- Cat-CVD法によるアモルファスシリコン太陽電池の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- Cat-CVD法によるアモルファスシリコン太陽電池の作製