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北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科 | 論文
- 触媒化学気相堆積法による薄膜形成
- 触媒化学気相堆積法による薄膜形成 (特集 触媒CVD法による薄膜・プロセス技術)
- 新しい固体酸 : カーボン系固体酸
- 24aYH-3 ニホウ化ジルコニウム薄膜を介在したシリコン上の窒化ガリウム成長(24aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- デンドリマー内部空間を利用したサブナノPdクラスター触媒の構成原子数制御
- モンモリロナイト層間を利用したサブナノPd粒子の調製とアリル位置換反応への応用
- 埋もれている大きな研究テーマ
- Cat-CVD 技術
- 触媒化学気相堆積(Cat-CVD)法の現状と今後の展望
- Cat-CVD法による窒化シリコン薄膜の低温堆積 : 気相診断と膜質評価(半導体エレクトロニクス)
- 有機ELディスプレイ用水蒸気バリア膜の形成 : 低温触媒CVD装置の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
- CS-5-7 Cat-CVD法により作製した窒化シリコン膜の特性とデバイス応用(CS-5.ナノスケール時代を迎えた薄膜電子材料の展開,エレクトロニクス2)
- Cat-CVD 法によるガスバリア膜の低温形成
- Cat-CVD法の包装用ガスバリアフィルム製造工程への適用 (特集 マーケット創出の成否を決する次世代パッケージング) -- (未来のマーケットを支える技術と商品開発)
- ELAポリシリコン薄膜の大粒径化 : 結晶成長と水素の関係(シリコン関連材料の作製と評価)
- 加熱触媒体により発生させた水素原子によるプラズマレス・レジスト剥離技術(薄膜プロセス・材料,一般)
- Cat-CVD法により形成したSiNx膜の応力制御(S05-3 薄膜の強度物性,S05 薄膜の強度物性と信頼性)
- Cat-CVD法で作製したSiN_x膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
- Cat-CVD技術の現状と将来展望 : 気相診断からデバイス応用まで
- Cat-CVD法によるアモルファスシリコン太陽電池の作製(薄膜プロセス・材料,一般)