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住友電気工業株式会社横浜研究所 | 論文
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- ファイバグレーティング外部共振器型多波長レーザアレイ
- ファイバグレーティングの耐放射線特性
- ファイバグレーティングの加熱経時変化
- 水素添加ガラスの光誘起屈折率変化
- 位相格子を用いたファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの信頼性評価
- 水素処理ファイバを用いた高反射率ファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの作成と応用について
- C-3-11 低分散バンドセパレーションFBGの開発
- C-3-142 低分散型FBGを用いた10Gb/sペナルティーフリー多段ADM伝送実験
- ファイバグレーティング型可変分散補償器
- C-3-116 ファイバカプラブラッググレーティング型ADMの検討
- ファイバグレーティングレーザ動特性の数値解析
- 液晶ポリマーチューブを用いたファイバグレーティングの温度補償実装
- ASE除去用ファイバグレーティングによるEDFA多段増幅系の特性改善
- 温度補償実装ファイバグレーティングの長期信頼性
- WDM伝送用ファイバグレ-ティングの開発