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リソテックジャパン(株) | 論文
- ホトリソグラフィ用化学増幅レジストのシミュレーションパラメータの推算
- 液浸リソグラフィ用レジスト材料の評価技術
- 厚膜レジストにおける実測溶解速度を用いたプロキシミティ・リソグラフィ・シミュレーションの検討
- P.E.B.プロセスにおけるホトレジストの感光剤の拡散長の推算
- ホトレジスト現像パラメータ測定システムの開発
- ホトレジストの感光パラメータ(A,B,C)測定装置の開発
- ホトリソグラフィにおける実測溶解速度を用いたデフォーカスシミュレーションの検討
- 厚膜レジストにおける現像方法の違いによる解像性の検討(電子材料)
- 厚膜レジストの高解像化に関する検討
- 厚膜レダストにおけるプリベーク条件が解像性に与える影響(電子材料)
- 電子線リソグラフィシミュレーション用現像パラメータ測定システムの開発