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(株)アルバック | 論文
- スパッタを用いたITO膜の成膜技術
- 寒冷地冷熱を利用した冷凍鋳型の非鉄合金鋳物への適用
- 大面積触媒CVD装置の開発
- 固体YAG2 ωグリーンレーザーによる再結晶化シリコン薄膜の解析(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- グラファイトナノファイバを用いた冷陰極ディスプレイの基礎検討(画像変換技術)
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- 次世代LSI配線用低誘電率多孔質シリカ膜の開発
- 準安定正方晶ジルコニアの安定性に関する研究
- 固体YAG2 ωグリーンレーザーによる再結晶化シリコン薄膜の解析(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- 17pYH-7 NH_3-MBEによるGaMnN膜の成長
- 17pYH-11 CAICISSによるNH_3-MBE成長GaMnNの評価
- 室温で強磁性を示す窒化ガリウム系半導体の合成
- Cat-CVD 法を用いて成膜したSiNx膜における水素添加の効果
- ZrB_2薄膜のキャラクタリゼーションとCu/SiO_2間のバリヤ特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- 真空アーク放電を利用した炭素複合成および評価
- MPA (methylpyrrolidine alane)を用いたAl CVD技術
- ウルツ鉱型(Ga,Mn)N膜の成長と物性
- アンモニア-MBE法によるMnドープGaN膜の成長
- 日本の製造業の再生
- 高周波スパッタリング法による強誘電体膜の量産技術