次世代LSI配線用低誘電率多孔質シリカ膜の開発
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 2001-12-01
著者
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村上 裕彦
(株)アルバック
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村上 裕彦
株式会社アルバック筑波超材料研究所
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村上 裕彦
株式会社 アルバック 筑波超材料研究所
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村上 裕彦
(株)アルバック・コーポレートセンター総合企画部
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村上 裕彦
アルバック
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