小谷 敏也 | (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社

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• 小谷 敏也

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• 小谷 敏也

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 児玉 親亮

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 小谷 敏也

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 中山 幸一

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• 三本木 省次

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 野嶋 茂樹

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 宮本 晋示

  (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社

• 児玉 親亮

  (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社

• 中山 幸一

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 野嶋 茂樹

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 三本木 省次

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• 宮本 晋示

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 井上 壮一

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 児玉 親亮

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• 宮本 晋示

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 野嶋 茂樹

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著作論文

• 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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• 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法(微細化対応技術,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
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• 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法
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