野嶋 茂樹 | (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

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著作論文

• リソグラフィの歴史と今後の展望(基調講演,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
• 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法(微細化対応技術,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
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• 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法
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