65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

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概要

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• 2004-09-20

著者

• 小谷 敏也

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 井上 壮一

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小谷 敏也

  (株)東芝セミコンダクター&ストレージ社

• 小谷 敏也

  (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社

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