高 峻 | 東京工業大学大学院総合理工学研究科

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• 大見 俊一郎

  東京工業大学

• 高 峻

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 高 峻

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学総合理工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 大見 俊一郎

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 石川 純平

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 石川 純平

  東工大

• 仲野 雄介

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物理電子システム創造専攻

• 大見 俊一郎

  東工大

• 石川 純平

  東京工業大学大学院総合理工研究科物理電子システム創造専攻

• 大見 俊一郎

  東京工業大学大学院総合理工研究科物理電子システム創造専攻

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著作論文

• 2段階シリサイド化によるHf混晶化PtSiの耐熱性向上に関する検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 2段階シリサイド化によるHf混晶化極薄PtSiの耐熱性向上に関する検討(半導体材料・デバイス)
• Hf混晶化によるPtSiの高精度仕事関数制御に関する検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• Yb混晶化PtSiの仕事関数変調機構(プロセス科学と新プロセス技術)
• Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数制御(プロセス科学と新プロセス技術)
• Hf混晶化PtSiの仕事関数変調機構の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• PtSiを用いたせり上げサリサイドの選択エッチングプロセスとHf混晶化による仕事関数変調

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