神谷 利夫 | 東京工業大学応用セラミックス研究所
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概要
関連著者
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神谷 利夫
東京工業大学応用セラミックス研究所
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神谷 利夫
東京工業大学工学部
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神谷 利夫
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
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細野 秀雄
東京工業大学 フロンティア研究センター
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細野 秀雄
東京工業大学
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神谷 利夫
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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野村 研二
科学技術振興機構ERATO-SORST
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平野 正浩
Jst
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平野 正浩
Jst‐erato
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Katase Takayoshi
Aterials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
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野村 研二
東京工業大学フロンティア研究機構
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坂井 悦郎
東京工業大学大学院理工学研究科
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大門 正機
東京工業大学大学院理工学研究科
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柳 博
東工大応セラ研
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清水 勇
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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清水 勇
東工大
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坂井 悦郎
東京工業大学
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大門 正機
東京工業大学
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宮川 仁
物材機構
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前田 佳輝
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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中畑 浩一
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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小丸 貴史
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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FORTMANN Charles
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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柳 博
東京工業大学応用セラミックス研究所
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宮川 仁
東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所
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金 起範
東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所
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平野 正浩
東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所
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田中 丈史
東京工業大学工学部
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河村 賢一
独立行政法人科学技術振興機構 細野透明電子活性プロジェクト
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高水 大樹
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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黒堀 利夫
金沢大学 大学院自然科学研究科
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平野 正浩
独立行政法人科学技術振興機構 細野透明電子活性プロジェクト
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細野 秀雄
独立行政法人科学技術振興機構 細野透明電子活性プロジェクト
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清水 勇
東京工業大学
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黒堀 利夫
金沢大学大学院 自然科学研究科
著作論文
- 酸化物半導体を利用した透明薄膜トランジスタ : フレキシブルエレクトロニクスへの新たな可能性を開く
- セラミックスの電磁気的・光学的性質 II. 基礎電子状態の理解はセラミックスの研究にどう役立つか : 酸化物半導体のバンドラインナップを例として
- 高性能フレキシブルTFT実現に向けたアモルファス酸化物半導体の材料探索とフレキシブルTFT特性
- アモルファス酸化物半導体を能動層とする透明フレキシブルトランジスタ
- ガラス基板上に低温成長させた多結晶シリコン薄膜の構造に与えるハロゲンの影響
- フエムト秒シングルパルス干渉露光法によるグレーティングの作成と光学ディバイスへの応用
- ナノ構造を利用したセメント鉱物C12A7の金属化 : 高透光性導電体薄膜の作製と低仕事関数を利用した電子注入電極への応用
- 高分子系分散剤によるエーライトの分散
- n型透明導電性酸化物の特徴と進展
- 酸化物が電気を流す!