神谷 利夫 | 東京工業大学 応用セラミックス研究所

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概要

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関連著者

• 神谷 利夫

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 神谷 利夫

  東京工業大学工学部

• 神谷 利夫

  Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• 神谷 利夫

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 細野 秀雄

  東京工業大学 フロンティア研究センター

• 細野 秀雄

  東京工業大学

• 野村 研二

  科学技術振興機構ERATO-SORST

• 野村 研二

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 柳 博

  東工大応セラ研

• 平野 正浩

  Jst

• 清水 勇

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 清水 勇

  東工大

• 宮川 仁

  物材機構

• 前田 佳輝

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 中畑 浩一

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 小丸 貴史

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• FORTMANN Charles

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 平野 正浩

  Jst‐erato

• 柳 博

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 宮川 仁

  東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所

• 金 起範

  東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所

• 平野 正浩

  東京工業大学 フロンティア研究センター/応用セラミックス研究所

• Katase Takayoshi

  Aterials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• 清水 勇

  東京工業大学

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著作論文

• 高性能フレキシブルTFT実現に向けたアモルファス酸化物半導体の材料探索とフレキシブルTFT特性
• アモルファス酸化物半導体を能動層とする透明フレキシブルトランジスタ
• ガラス基板上に低温成長させた多結晶シリコン薄膜の構造に与えるハロゲンの影響
• ナノ構造を利用したセメント鉱物C12A7の金属化 : 高透光性導電体薄膜の作製と低仕事関数を利用した電子注入電極への応用
• n型透明導電性酸化物の特徴と進展

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